實驗室介紹

主要的研究目標包括： 

1. 探討過渡金屬氧化物在高壓及高磁場環境下之光譜與其物理特性的關連。此處所謂“過渡金屬氧化物”包括：高溫超導銅氧化物、龐磁阻與電荷有序排列錳氧化物、熱電與超導鈉鈷氧化物、磁性釕系或銥系氧化物、及氧化還原鋰系氧化物等具有新奇特性的尖端材料。這些系統因其電荷載子、電子自旋磁性、及電子雲軌域彼此之間複雜的交互作用，進而造成這些氧化物有不尋常相轉變行為。 

1. 研究不同結構、成份、鍵結的一維奈米結構如奈米管、奈米線及奈米柱等的光譜響應，因其低維度量子侷限及特殊形狀的關係，通常具有不同於塊材且相當奇特的電子與光電行為。 

這些新穎尖端材料在諸如：光電元件、高密度磁光記錄硬碟、薄膜電池、與生醫檢測電子元件具應用潛力，同時深具學術研究價值，其中有許多亟需擴展的基礎研究與技術開發空間。本實驗室藉由量測其顯微全頻光譜，進一步了解有實用價值之光電、電子材料之基礎科學相關問題。